拓真空属于高端智能制造、半导体薄膜沉积的细分行业，目标是半导体行业真空镀膜设备这个细分赛道的国内头部企业。此赛道长期以来均被美国应用材料，日本爱发科，台湾富临等外资厂商垄断。目前源拓真空已成功打破国外垄断，技术团队用极低的研发成本及极短的开发周期将设备开发成功，并成功在真空蒸发镀膜设备上取得国内指标性客户验证合格并开始产生批量订单，成功开发产业界应用最大的尺寸设备，助力半导体客户进一步提高产能，降低成本，深受好评；国内众多客户都开始主动寻求深度合作，助力国内受制裁领域企业顺利孵化并成功稳定量产，良率保障率极高；高端磁控溅射设备也已开发完成，高端磁控溅射市场长期被美国应用材料及日本爱发科等外资设备所垄断，国内很多大型企业都在不断加大投入研发过程中。该磁控溅射设备百亿级美金市场，国内尚无企业具备生产制造能力，空间潜力巨大。 企业目前已于2025年10月20日顺利落户苏州市相城区高铁新城板块，办公总部位于中荷创新港，工厂位于AI+交通产业园。 目前企业已获得国开创投，中华开发（台积电股东背景），苏创投产研院投资。